主要功能：

        具备单色化XPS、微区XPS、Al/Mg双阳极XPS、平行成像XPS、离子深度刻蚀、离子散射谱ISS、反射电子能量损失谱REELS和定制气体反应系统准原位X射线能谱分析功能。

 

主要配置及技术指标：

1. 常规XPS，鉴别样品表面的元素种类、化学价态以及相对含量。双阳极XPS，更适合用于不同的特殊过渡金属元素的研究，如催化领域。

2．微区XPS分析（单色化XPS），用于样品微区（＞20μm）表面成分分析，高能量分辨的化学态分析。

3．深度剖析XPS，结合离子刻蚀技术对样品（如薄膜等）进行成分深度分布分析。通过角分辨XPS还可以进行非损伤成分深度分布分析。

4．XPS成像，可以对元素或化学态进行表面面分布分析，使一些分析结果更直观。

5．反射电子能量损失谱REELS技术，可实现氢元素的检测。

6．离子能量损失谱ISS，可实现样品表面元素信息的检测。

7．紫外光电子能谱（UPS），可以获得样品价带谱信息，对导体、半导体的能带、带隙等分析提供主要数据。还可以分析样品逸出功等。

8. 变温（液氮制冷，加热）条件下测试。

9. 原位测试。

工作原理

      基于光电效应，采用X射线激发被测样品表面纳米尺度内的原子发射光电子，通过系统探测到所发射光电子的动能等信息，进而分析样品表面的元素种类及化合态的定性和定量分析的一种技术。

主要用途：

       可用于研究各种固体材料样品表面（1-10nm厚度）的元素种类、化学价态以及相对含量。结合离子刻蚀技术还可以获得元素及化学态深度分布信息；通过成像技术可以获得元素及化学态的面分布信息；利用微聚焦X射线源或电子束可以获得微区表面信息。在金属、玻璃、高分子、半导体、纳米材料、生物材料以及催化等领域有广泛应用。
 
       表面分析

 
表面化学态分析

 
纵深分析

二次电子影像